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日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
說明
只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境（例如超高真空或氣流）中的樣品，以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
Thermo Riko的主要型號。
特點
 | 快速升溫 | ：大加熱速度為150℃/秒，gao1500℃持續(xù)約1分鐘 |
| 清潔加熱 | ：無需擔心氣體的產生或熱源的電磁感應 |
| 局部供暖 | ：僅用紅外光照射樣品，不加熱周圍區(qū)域 |
| 可自由連接 | ：可以連接到各種系統(tǒng) |
用途
| 快速加熱和退火樣品，例如Si和SiC |
| 在氧化氣氛中形成氧化物晶體，形成薄膜 |
| 在氫氣和氮氣中加熱基材 |
| X射線或UV照射過程中樣品的溫度升高 |
| 解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等的加熱 |
| 磁場加熱，非磁場加熱 |
| 在加壓氣氛中加熱 |
| 通過對樣品施加載荷來加熱 |
日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
規(guī)格
| 紅外線感應加熱裝置根據應用具有以下規(guī)格。 | ||||||||||||
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超高真空型GVH
| 型號名稱 | GVH198 | GVH298 |
| 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 |
| gao溫度 | 1200°攝氏度 | 1400°攝氏度 |
| 加熱面積 | φ20毫米 | |
| 大加熱速度 | 1℃/秒 | |
| 大極限真空 | 5×10 -9帕 | |
| 冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
高速加熱型GV / GVL
| 型號名稱 | GV154 | GV198 | GVL298 | GVL398 |
| 紅外燈額定值 | 500瓦 | 1千瓦 | 2千瓦 | 3千瓦 |
| gao溫度 | 1100°攝氏度 | 1300°攝氏度 | 1500°攝氏度 | 1600°攝氏度 |
| 加熱面積 | φ14毫米 | φ20毫米 | ||
| 大加熱速度 | 100°C /秒 | 100-150°C /秒 | ||
| 大極限真空 | 5×10 -7帕 | |||
| 冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 | ||
加壓氣氛類型GVP
| 型號名稱 | GVP198 | GVP298 |
| 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 |
| gao溫度 | 1200°攝氏度 | 1300°攝氏度 |
| 加熱面積 | φ20毫米 | |
| 大加熱速度 | 100°C /秒 | |
| 大耐壓 | 1MPa以下 | |
| 冷水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
| 快速退火紅外感應加熱系統(tǒng)GV1 / GV2 |
| 底部照射型紅外熱處理設備RTA198 / RTA298 |
| 熱脫附氣體分析儀GV2H |
| 用于磁場中樣品加熱的紅外引入加熱系統(tǒng)GVL298M / GV154M / GV-M 1 |
| 用于X射線形貌的紅外感應加熱裝置 |
| XPS設備安裝示例 |
